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454.第453章 布局(下)(1 / 2)

(' 第453章 布局(下)

还没有发生的事情,李建昆自然不好说出来,他只能找别的由头。

“无纺布技术,科院不是早有?一样的道理,他们研发的光刻机成果,主要关在实验室,很难落实到民用。”

他顿了顿,道:“我的意思是,咱们向9003所采购一台最新的光刻机,沿着这个基础,吸纳研究员、培养人才,学习研发,一个目标:赶超世界!

“当然,期间如果有成果,我也会及时孵化出商业价值。据我所知,9003所的二代光刻机,已经能造出一些大规模集成电路。”

值得一提的是,集成电路的制造,光刻机一直是最优解。

但当下这个年代,许多工厂还没用上光刻机,原因在于他们生产的产品,其中涉及的集成电路,不够复杂——

半导体载体上集成的晶体管数量不多。

像是生产收音机、录音机和电视机的这些个工厂,他们主要还是采用蚀刻电路技术。

蚀刻法的劣势很明显,粗犷、笼统,残品率高,无法应用于高精端的集成电路制作。

陈春仙咂舌道:“你懂得可真多啊。”

差一点超过他。

他却不知道,凭借前世当键盘侠时,掌握的那点毛皮,等到他们真的开始研发光刻机时,李建昆说不定时不时还能来记“仙人抚顶”。

比如他知道,第四代光刻机,1986年由asml率先推出,采用193nmarf激光光源。但在此后将近二十年时间里,业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点,因而157nm将成为主流技术,可是157nm光刻技术,又遭遇来自光刻机透镜的巨大挑战,始终不得突破。

等于说,光刻机技术几乎停滞发展二十年。

直到2007年,asml和台积电合作研发出浸没式光刻机。技术细节肯定很复杂,但道理其实挺简单——

将193nm的光波浸没在液体中,它的等效波长缩短至134nm,一举超越157nm的极限。

许多创意的来源,有时还真是灵光乍现。

假如到时候,他跟研究员说“把光投进水里试试”,是不是有了研究方向?

李建昆莞尔一笑,“没听过一句话吗?人无法赚到认知以外的钱。想干这行道,岂能不做番功课?”

陈春仙踌躇着说:“9003所会不会卖哦。”

“你老陈同志是谁?上面发话要大力鼓励和支持的对象,别人不行,你一准成。”李建昆提起铁丝罩暖水壶,给大佬蓄上水。

陈春仙没好气剐他一眼道:“你丫心眼忒大,我跟你讲,研发光刻机这种高精大型设备,本身就是个无底洞!再一个,吸纳劳什子研究员?几个懂行?都得从头摸索、培养!到时绝对钱如流水,你能撑住吗?”

集国家之力在干的活,你非得自个单干,如此想不开……

“放心吧,没有金刚钻不揽瓷器活,不会少你研发资金。”

话虽这样说,但李建昆心头要说没点压力,那也是假的。

光刻机极其复杂,一台高端光刻机涉及到十万多个零部件,需要工厂造吧?所幸咱们现在有个薄弱基础。问题是,随着上面放弃光刻机研发,配套的工厂或实验室,只怕都得停摆或转行。

想要保证光刻机的研发持续不断,那么他必须确保这些工厂或实验室,不“死”,还得继续往前发展。

或是资助,或者想办法吸纳。

都需要钱啊!

难以想象的资金。

而且,他想干的还不仅仅是一个光刻机,光刻机只是基础生产资料。他想要的是整合芯片的全产业链……

在没有产生效益之前,毫无疑问,一头洪荒吞金兽啊!

李建昆忽地发觉,自个穷得叮当响。

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